A l'origine localisés dans l'ancien bâtiment de l'IOGS à Orsay, les équipements technologiques du laboratoire sont installés depuis fin 2015 à Palaiseau , à l'étage du bâtiment N.
Dédiés principalement aux applications pour l'extrême UV, ils sont hébergés par le groupe X-UV et se déploient sur 120 m2 de locaux classés "propres" (78 m2 de salle blanche en ISO6 et ISO5 sous flux, 11 m2 en ISO7 pour le sas et 41 m2 de locaux technique "gris" en ISO8) et 64 m2 de locaux non-classés regroupant principalement les outils de caractérisation.
Matériaux : B4C, Mo, Si, SiC, W, Sc, Al.... Gaz : Ar, N2, O2
4 cibles rectangulaires de 200x800mm2 , dépôts en mode dynamique
2 générateurs RF (100W max et 300 W max) et 2 générateurs DC 500 W max
Matériaux : Mo, Si, B4C Gaz : Ar, N2, O2
Cibles : 4 cibles rectangulaires de 200 x 80 mm2 , dépôts en mode dynamique
Générateur : 2 générateurs RF (700 W max) et un générateur DC 1A max
Générateur RF : 500W max 1 cible 3 pouces, 1 creuset d'évaporation
Taille du substrat : 50 mm Porte-substrat chauffant : 250°C max
Gaz : Ar, O2, N2
Dédiées au nettoyage des substrats.
Sorbonne solvant (métal) et sorbonne acide (polymère)
Etuve 250 °C maximum Eau désionisée
Taille d'échantillon maximum : 200mm
Résolution minimale : 2nm
Stylet : 2.5/12,5µm
Profil de surface (analyse 3D) et mesures de contraintes