Aller au contenu principal Aller au menu Aller à la recherche

Nanomasqueur NBL3

Le masqueur électronique NBL3 de la société Nanobeam Limited a été installé au sein de la PTC à Thales RT fin 2005. Petit et compact, il permet néanmoins de réaliser des lithographies électroniques de haute qualité sur des échantillons allant jusqu'à 200mm.

Caractéristiques

NB3

Spot

  • Tension d’accélération : 20 kV jusqu’à 100 kV (utilisation routine 80kV)
  • Courant de sonde : jusqu’à 100nA
  • Taille du spot : 3nm
  • Résolution actuelle : 20nm mais il est théoriquement possible de descendre en dessous de 15nm
  • Contrôle de la dose d'insolation : en temps réel, avec des incrément de 0.5 Hz

Platine

  • Grandissement : jusqu'à x 300 000
  • Platine contrôlée par interférométrie laser (précision de positionnement λ/2048 soit 0.31 nm)
  • Déplacement : X 200mm, Y 200 mm

Chargement

  • Transfert d’échantillon du sas à la platine auto
  • Cassette 10 chucks
  • Chuck : clampages électrostatique et mécanique.

Échantillons

  • Taille des échantillons : wafers de 2 à 8 " (20,3 cm); masques (rectangulaires) jusqu'à 7 " (17,8 cm), échantillons carrés de 5mm à 20 mm.
  • Champ d’écriture : jusqu’à 800 µm avec une résolution de 1nm
  • Surface insolable : 198 mm x 198 mm
Site réalisé par Intuitiv Interactive